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實(shí)驗(yàn)室表面處理利器！SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機(jī)，高效溫和不損傷樣品
在半導(dǎo)體、材料研發(fā)、精密制造等實(shí)驗(yàn)室場(chǎng)景中，樣品表面的有機(jī)污染物、殘留雜質(zhì)，一直是影響實(shí)驗(yàn)精度、產(chǎn)品良率的關(guān)鍵問題。傳統(tǒng)清洗方式不僅流程繁瑣，還容易損傷敏感基材，今天給大家推薦一款專業(yè)的表面處理設(shè)備 —— 日本 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機(jī)，用紫外光 + 臭氧 + 臺(tái)面加熱的三重作用，溫和高效去除有機(jī)污染物，適配多種基材，是實(shí)驗(yàn)室表面處理的理想選擇。
一、核心原理：三重作用，溫和高效
UV-1 采用獨(dú)特的紫外光照射 + 臭氧生成 + 臺(tái)面加熱的協(xié)同作用原理：氧氣經(jīng)濾塵后生成臭氧，在紫外燈照射下分解為高活性氧自由基，與樣品表面的有機(jī)物發(fā)生氧化反應(yīng)，將其分解為二氧化碳和水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn)清洗；加熱臺(tái)面可加速清洗速率，同時(shí)滿足不同工藝的溫度需求。整個(gè)過程在大氣壓下完成，無需真空系統(tǒng)，操作便捷，且不會(huì)產(chǎn)生靜電損傷，可保護(hù) GaN、SiC 等敏感化合物半導(dǎo)體基材。
二、產(chǎn)品特色：實(shí)驗(yàn)室友好型設(shè)計(jì)，安全省心
寬適配性，多基材兼容：可處理 φ100mm 基板及 4 英寸晶片，覆蓋硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC）、藍(lán)寶石、陶瓷等多種基材，滿足不同實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景需求。
緊湊設(shè)計(jì)，節(jié)省空間：設(shè)備結(jié)構(gòu)精巧，占用實(shí)驗(yàn)室空間小，適合各類實(shí)驗(yàn)室布局。
常壓操作，無需真空：在大氣壓下即可運(yùn)行，無需搭配復(fù)雜的真空系統(tǒng)，降低使用門檻和維護(hù)成本。
溫和工藝，無損傷處理：全程無靜電、無機(jī)械損傷，不會(huì)破壞樣品結(jié)構(gòu)，尤其適合敏感電子材料。
多重安全防護(hù)：配備上蓋連鎖機(jī)制（上蓋開啟時(shí)系統(tǒng)無法操作）、自動(dòng) N? purge 循環(huán)、加熱臺(tái)面保險(xiǎn)絲保護(hù)、臭氧分解裝置、緊急停止按鈕等多重安全設(shè)計(jì)，保障操作人員安全，同時(shí)將排氣臭氧濃度降至安全標(biāo)準(zhǔn)。
臭氧無害化處理：內(nèi)置臭氧分解裝置，避免臭氧排放污染，符合實(shí)驗(yàn)室環(huán)保要求。
三、應(yīng)用場(chǎng)景：覆蓋多領(lǐng)域?qū)嶒?yàn)室需求
塑封封裝及引線框架表面清洗
化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC）表面清洗
表面改質(zhì)（親水性及增進(jìn)附著力）
表面氧化（氧化薄層的形成）
光阻的灰化、去除、殘留清洗
去除有機(jī)污染物
UV 硬化
SAMCO 作為日本的半導(dǎo)體工藝設(shè)備品牌，擁有多年的設(shè)備研發(fā)經(jīng)驗(yàn)，產(chǎn)品以穩(wěn)定的性能、精巧的設(shè)計(jì)，廣泛應(yīng)用于各類科研實(shí)驗(yàn)室、半導(dǎo)體研發(fā)機(jī)構(gòu)。UV-1 紫外臭氧清洗機(jī)，從清洗效率到操作安全性，都做到了行業(yè)較高水平，是實(shí)驗(yàn)室表面處理、樣品前處理的高效利器。
如果你正在找一款溫和高效、適配多基材、安全省心的表面清洗設(shè)備，不妨試試 SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機(jī)，讓樣品前處理更高效、更精準(zhǔn)！
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