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紅外線高速加熱爐的工作原理及應(yīng)用范圍
只有安裝在各種氣氛(例如超高真空或氣流)中的樣品才能通過紅外線jing確定位,以快速加熱樣品而不會發(fā)生接觸。
它可以輕松連接到真空系統(tǒng)或分析儀。
這是Thermo Riko的主要型號。
快速升溫
:gao升溫速度150℃/秒,gao1500℃約1min
清潔加熱
:不用擔(dān)心熱源或電磁感應(yīng)產(chǎn)生的氣體
局部供暖
:僅用紅外線照射樣品,請勿加熱周圍環(huán)境
可自由安裝
:可以連接到各種系統(tǒng)
高速升溫和Si和SiC等樣品的退火
氧化氣氛中的氧化物晶體形成和薄膜形成
在氫氣和氮?dú)庵屑訜峄?/td>
在X射線或紫外線照射下樣品的溫度升高
在分析儀中加熱樣品,例如加熱的解吸氣體分析儀,XPS,XRD,PLD等。
在磁場中加熱,在非磁場中加熱
在加壓氣氛中加熱
加熱樣品
紅外線引入加熱裝置根據(jù)應(yīng)用具有以下規(guī)格。
超高真空型
它支持 10
-9
Pa的超高真空。
高速升溫型
大溫度上升率可以實(shí)現(xiàn)150°C /秒的高速溫度上升。
常溫加熱型
對于放置在大氣中的樣品,可以進(jìn)行點(diǎn)加熱。
加壓氣氛類型
可以加熱壓力在10個(gè)大氣壓以下的樣品。
特殊功能
利用GV系列的功能,我們可以滿足各種要求,例如快速降溫,負(fù)載加熱和磁場加熱。
請隨時(shí)與我們聯(lián)系。
CE標(biāo)志合格
我們還生產(chǎn)符合CE標(biāo)志的規(guī)范。
原理圖
超高真空型GVH
型號名稱
GVH198
GVH298
紅外燈額定值
1千瓦
2千瓦
gao溫度
1200℃
1400℃
受熱面
φ20毫米
大加熱速度
1℃/秒
大極限真空
5×10
-9
帕
冷水量
1升/分鐘
2升/分鐘
高速升溫型GV / GVL
型號名稱
GV154
GV198
GVL298
GVL398
紅外燈額定值
500瓦
1千瓦
2千瓦
3千瓦
gao溫度
1100℃
1300℃
1500℃
1600℃
受熱面
φ14毫米
φ20毫米
大加熱速度
100℃/秒
100-150℃/秒
大極限真空
5×10
-7
帕
冷水量
1升/分鐘
2升/分鐘
加壓氣氛類型GVP
型號名稱
GVP198
GVP298
紅外燈額定值
1千瓦
2千瓦
gao溫度
1200℃
1300℃
受熱面
φ20毫米
大加熱速度
100℃/秒
大耐壓
1MPa以下
冷水量
1升/分鐘
2升/分鐘
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關(guān)于粉體的密度解析——振實(shí)密度儀
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